Генеральный директор Intel Пэт Гелсингер считает, что санкции, введенные против сектора производства полупроводников Китая США, Японией и Нидерландами, на данный момент сдерживают развитие техпроцессов за пределами 7-нм в Китае. Хотя Китай будет продолжать развивать свое мастерство в области полупроводников и разрабатывать более совершенные инструменты для производства микросхем внутри страны, он примерно на десятилетие отстает от мировой полупроводниковой промышленности и останется в таком положении, считает Гелсингер.
«Экспортная политика, которая была введена в действие в последнее время, мы видели голландскую [политику], политику США, японскую политику, своего рода установили нижний предел в диапазоне от 10 до 7 нм для [китайской полупроводниковой промышленности]», — Гелсингер Об этом заявил на Всемирном экономическом форуме в швейцарском Давосе в эфире CNBC. «Мы стремимся опуститься ниже 2 нм, а затем и до 1,5 нм, и вы знаете, что мы не видим этому конца».
На данный момент китайская литейная компания SMIC располагает 7-нм техпроцессом, который можно использовать для производства сложных процессоров приложений для смартфонов в больших объемах, что отстает примерно на пять с половиной лет от TSMC и Samsung. Между тем, по сообщениям СМИ, Shanghai Huali Microelectronics Corp. (HLMC) начала пробное производство чипов по 14-нм техпроцессу на основе FinFET в 2020 году, а это означает, что сейчас она отстает от TSMC на девять-10 лет.
Тем не менее, и SMIC, и HLMC используют инструменты, произведенные в Нидерландах, Японии, Южной Корее, Тайване и США, а также чистое сырье из Японии. Без доступа к ним китайским компаниям придется разрабатывать оборудование и средства для производства пластин, а также средства очистки газов, резистов и других химикатов для передового производства чипов. По словам Гелсингера, на данный момент они отстают от мировой индустрии микросхем примерно на десять лет, и хотя они будут развиваться, в обозримом будущем они останутся примерно на десятилетие позади.
«Это не значит, что Китай не собирается продолжать инновации, но это очень взаимосвязанная отрасль», — сказал Гелсингер. «Зеркала Zeiss, сборка оборудования ASML, химикаты и резист в Японии, производство масок Intel. Я думаю, что все это вместе взятое составляет 10-летний разрыв, и я думаю, что с проводимой экспортной политикой это устойчивый 10-летний период».
Современные технологии полупроводниковых процессов требуют согласованных усилий всей мировой индустрии, большого количества фундаментальных исследований и сотен миллиардов долларов, потраченных на исследования и разработки. Сможет ли Китай справиться со всем этим в одиночку, вопрос спорный. Между тем, если Китай будет полностью отрезан от передовых инструментов и технологий для производства микросхем, его полупроводниковые компании могут попытаться перепроектировать и скопировать оборудование, которое они смогут получить, чтобы сократить разрыв с мировой индустрией микросхем. Это не совсем эффективный метод, но у них может просто не быть выбора.
Иван Ковалев
VIA